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半导体装备 Semiconductor

Hesper TE430R

12英寸单片矩形腔减压外延系统

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Hesper TE430R 12英寸单片矩形腔减压外延系统
Hesper TE430R 12 Inch Single Wafe Rectangular Chamber Reduced Pressure Silicon Epitaxy System
Hesper TE430R为12英寸单片减压外延设备,可配备前处理腔室(ASSC)和3个外延腔室。该机台通过5+5路进气控制、垂直红外加热灯分布设计和先进的控压控温系统,得到较好的膜厚均匀性,主要用于先进逻辑和存储领域沟道层的生长。
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