设备适用于光伏、半导体等领域，可满足石墨结构件、毡类产品的石墨材料的纯化工艺需求。最高温度可达2400℃，温度均匀性±5℃；具备多维进气系统，精确流量控制，可实现工艺气与保护气的独立/混合进气及定向进排气功能；反应室多孔分气结构设计，可调节室内反应气体分布，保证纯化均匀性。
