GDE C200系列等离子刻蚀机 GDE C200 Series Plasma Etcher - 等离子刻蚀设备 Etcher - Semiconductor

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GDE C200系列等离子刻蚀机 GDE C200 Series Plasma Etcher

GDE C200系列单片刻蚀机采用超高密度等立体源，刻蚀速率高、均匀性好，颗粒控制能力优异，易维护，性能稳定。其在GaN、SiC、SiO₂、Al₂O₃等材料的刻蚀上性能优异、工艺窗口宽，易于同相关工艺整合。
本刻蚀机已在多条产线验证成功，积累了丰富的刻蚀经验，能提高GaN和SiC功率器件的性能，同时保证性价比。

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应用领域：

功率半导体

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