半导体装备 Semiconductor

HORIS D12

扩散系统

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HORIS D12 扩散系统
HORIS D12 Diffusion System
HORIS D12扩散系统主要应用于晶硅电池制作过程中的硼/磷掺杂、氧化、退火等工艺,该设备为多管卧式炉管设备,主要由净化台、炉体机箱、气源柜组成,自动化机械手集成在净化台内部,实现工艺的自动运行。
设备特点
  • 配备自动上下料系统,可对接各类厂家倒片机,成熟的MES接口经验
  • 高精度控温,源瓶压力控制,在线工艺调整
  • 工艺结果的一致性、稳定性优良
  • 耐高温密封,大容积过滤,自动废液收集,多预警功能,维护性和安全性高
  • 3C系统可对同一工序的所有机台进行监控及数据分析
产品应用
  • 适用硅片尺寸
    156mm~230mm
  • 装片量
    1600~2880 片/管
  • 单机台管数
    4、5、6、10、12管/系统
  • 温度范围
    600~1100℃
  • 压力调节范围
    35mbar-ATM连续可调
  • 工艺种类
    低压磷/硼扩散、常/低压退火/氧化、常压退火/氧化、H₂退火
  • 适用领域
    新能源光伏
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