HORIS D12 扩散系统
HORIS D12 Diffusion System
- 设备特点
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- 配备自动上下料系统，可对接各类厂家倒片机，成熟的MES接口经验
- 高精度控温，源瓶压力控制，在线工艺调整
- 工艺结果的一致性、稳定性优良
- 耐高温密封，大容积过滤，自动废液收集，多预警功能，维护性和安全性高
- 3C系统可对同一工序的所有机台进行监控及数据分析
- 产品应用
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- 适用硅片尺寸156mm~230mm
- 装片量1600~2880 片/管
- 单机台管数4、5、6、10、12管/系统
- 温度范围600~1100℃
- 压力调节范围35mbar-ATM连续可调
- 工艺种类低压磷/硼扩散、常/低压退火/氧化、常压退火/氧化、H₂退火
- 适用领域新能源光伏
