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化学气相沉积设备 CVD
  化学气相沉积(CVD)技术是用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术。在典型的CVD工艺过程中,把一种或多种蒸汽源原子或分子引入腔室中,在外部能量作用下发生化学反应并在衬底表面形成需要的薄膜。通常,工艺过程中还会产生很多副产物,这些副产物会被气流带走离开腔室。由于CVD技术具有成膜范围广、重现性好等优点,被广泛用于多种不同形态的成膜。北方华创微电子凭借十余年的微电子领域高端工艺设备开发经验,先后完成了PECVD、APCVD、LPCVD、ALD等设备的开发,致力于为集成电路、半导体照明、微机电系统、功率半导体、化合物半导体、新能源光伏等领域提供各种类型的CVD设备,满足客户多种制造工艺需求。北方华创微电子自主开发的卧式PECVD 已成功进入海外市场,为多家国际领先光伏制造厂提供解决方案。而硅外延设备在感应加热高温控制技术、气流场、温度场模拟仿真技术等方面取得了重大的突破,达成了优秀的外延工艺结果,获得多家国内主流生产线批量采购。
集成电路 IC
光伏电池 Photovoltaic
微机电系统 MEMS
半导体照明 LED
功率器件 Power Devices