产品&服务
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半导体照明 LED
采用氮化镓基发光二极管作为光源的半导体照明技术，以其节能、高效、寿命长等优点被广泛应用于照明、大屏幕显示、指示灯、背光源等领域，其技术发展迅速、应用领域广泛、产业带动性强、节能潜力大，被公认为最有发展前景的高效照明产业。在LED领域，ICP刻蚀机自面市以来已经实现了两百台的销售突破，其中GaN刻蚀机新增市占率超过80%，成为行业标杆机型；自主开发的应用于LED制程的AlN缓冲层沉积设备，引领LED领域技术发展，凭借其优越的性能，成为客户最信赖的技术创新产品。
等离子刻蚀设备 Etcher
物理气相沉积设备 PVD
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设备满足28-14nm FinFET、Double pattern和3D NAND原子层沉积工艺要求；可根据需求量身定制硬件升级方案。
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应用于先进封装、集成电路、功率器件、MEMS、LED等领域的8寸PVD磁控溅射设备
化学气相沉积设备 CVD
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EPEE550 是应用于LED、Power、MEMS等领域氧化硅SiO2、氮化硅SiNx、氮氧化硅SiON薄膜沉积的PECVD设备。
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高度自动化的大产能PECVD设备，适用于SiO2、SiNx、SiOxNy等多种介质薄膜沉积。
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APS系列SiC晶体生长系统，是实现高质量SiC晶体生长、高纯度原料合成、高温晶体热处理的专业设备。
氧化扩散设备 Oxide/Diff
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卧式扩散/氧化系统可满足扩散、干/湿氧氧化、退火、合金等多工艺需求，广泛用于IC、POWER、PV、MEMS、LED等领域。
清洗设备 Cleaning Tool
辅助设备 Facility
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药液供给/回收系统为各研究所、高等院校等提供灵活的客户化定制机台，满足客户需求。
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用于对硅片或其他工件表面进行刻蚀或清洗工艺的需求
气体测量控制 Gas Measuring Control
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CS300系列产品是针对集成电路、半导体照明等行业研制的数字流量测控产品。
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CS200系列是可满足半导体、光伏、真空镀膜高端客户的数字式流量测控产品。