HORIS L12 管式低压化学气相沉积设备
HORIS L12 LPCVD System
- 设备特点
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- 多路进气方式以及前后双匀流设计保证高质量薄膜工艺均匀性
- 高强度石英舟结构和双层密封反应腔室保障低运营成本，实现超高设备稼动率
- 超大承载机构设计以及专项升级的抓取机构
- 采用先进的闭环压控系统，确保成膜速度和均匀性
- 具备多种镀膜技术，如多层复合膜、掺杂多晶硅技术
- 产品应用
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- 适用硅片尺寸156mm~230mm
- 装片量1300~2860（单槽双插）片 / 管
- 单机台管数5、6、10、12 管 / 系统
- 工艺种类氧化硅、多晶硅、掺磷多晶硅、掺硼多晶硅
- 温度范围600~1000℃
- 适用领域新能源光伏
