eVictor PVD Al 金属铝薄膜物理气相沉积系统
eVictor PVD Al System
- 设备特点
-
- 先进的磁控溅射系统，有效提高薄膜均匀性及靶材利用率
- 专业的加热基座和高温静电卡盘设计，具备良好的温度均匀性
- 全新双腔传输平台，可配置性强，可支持10个工艺模块
- 优秀的Whisker Defect解决方案，降低产品缺陷
- 大产能，低运营成本
- 产品应用
-
- 晶圆尺寸12英寸
- 适用材料铝、氮化钽、氮化钛、钛
- 适用工艺Al Pad、铝线、热铝
- 适用领域集成电路、功率半导体、硅基微型显示
