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NMC 612M

12英寸氮化钛金属硬掩膜刻蚀机

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NMC 612M 12英寸氮化钛金属硬掩膜刻蚀机
NMC 612M 12 Inch TiN Metal Hard Mask Etcher
NMC 612M 12英寸氮化钛金属硬掩膜刻蚀机是应用于40-28nm制程集成电路的金属干法刻蚀设备，用于氮化钛金属硬掩膜、高K值介质刻蚀、钨/钛/钽等金属及其化合物刻蚀等工艺。
设备特点
  • 先进的线宽、形貌、均匀性控制能力
  • 多区温控静电吸附卡盘提高晶圆温度控制能力
  • 高产能，工艺稳定，低缺陷
  • 脉冲等离子体射频技术可以减少等离子体诱导损伤
产品应用
  • 晶圆尺寸
    12英寸
  • 适用材料
    金属
  • 适用工艺
    TiN HM刻蚀、高K值介质刻蚀、W/Ti/Ta等金属及其化合物刻蚀
  • 适用领域
    集成电路
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