Esther E320R 8英寸单片减压硅外延系统
Esther E320R 8 Inch Single Wafer Reduced Pressure Silicon Epitaxy System
- 设备特点
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- 专业的气流场和温度场设计，获得良好的工艺性能
- 高精度的压力控制系统，保证成膜质量
- 稳定的传输和电机升降系统，保证工艺结果一致性
- 友好的人机交互和全面的安全性设计，保障系统稳定、安全、高效
- 具有单腔和多腔两种机型，可满足不同客户需求
- 产品应用
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- 晶圆尺寸6/8英寸兼容
- 适用材料硅
- 适用工艺体硅外延、埋层外延、选择性外延
- 适用领域集成电路、功率半导体、衬底材料、科研领域
