THEORIS A302C立式退火炉在中低温条件下，通入N₂、H₂或D₂等气体，消除硅片界面处金属及非金属晶格缺陷和晶格损伤，优化硅片界面质量，提升器件良率。该退火设备提供高精度的温度控制算法、严格的金属控制指标、稳定的传输控制系统以及安全的特气处理装置等解决方案，兼顾了工艺目标的实现与生产可靠性的保障。
