半导体装备 Semiconductor

FLOURIS X201H

8英寸立式高温氧化炉

联系咨询
FLOURIS X201H 8英寸立式高温氧化炉
FLOURIS X201H 8 Inch Vertical High-Temp Oxidation Furnace
FLOURIS X201H主要用于8英寸高温氧化及退火工艺。该机台为批式热处理设备,主要由工艺腔室、传输系统、气体分配系统、尾气系统和温度控制系统等组成,具有片内均匀性好、自动化程度高、系统性能稳定的特点,可满足大规模集成电路生产线要求。,可实现干氧、湿氧和掺氯氧化工艺及退火工艺,支持1200℃高温氧化工艺。
设备特点
  • 高精度温度场控制技术,1200℃高温氧化工艺
  • 先进的颗粒控制技术
  • 图形化操作界面和群组管理系统
  • 优良的膜厚均匀性控制能力
产品应用
  • 晶圆尺寸
    8英
  • 适用材料
    硅、碳化硅
  • 适用工艺
    高/中温氧化、退火
  • 适用领域
    集成电路、功率半导体、 化合物半导体、衬底材料、科研领域
分享我们:
微信扫一扫
联系我们
官方公众号