半导体装备 Semiconductor

FLOURIS X201P

8英寸立式中温氧化炉

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FLOURIS X201P 8英寸立式中温氧化炉
FLOURIS X201P 8 Inch Vertical Mid-Temp Oxidation Furnace
FLOURIS X201P主要用于8英寸中温氧化及退火工艺。设备为批式热处理设备,由工艺腔室、传输系统、气体分配系统和温度控制系统等组成,具有片内均匀性好、自动化程度高、系统性能稳定的特点,可满足大规模集成电路生产线要求,可实现常规氧化及BPSG回流退火等工艺,温度控制可调,精度高。
设备特点
  • 高精度温度场控制技术
  • 先进的颗粒控制技术
  • 图形化操作界面和设备数据群组管理系统
产品应用
  • 晶圆尺寸
    8英寸
  • 适用材料
    硅、碳化硅
  • 适用工艺
    干氧氧化、湿氧氧化、DCE氧化、退火
  • 适用领域
    集成电路、功率半导体、化合物半导体、科研领域
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