半导体装备 Semiconductor

SC3080

12英寸单片清洗设备

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SC3080 12英寸单片清洗设备
SC3080 12 Inch Single Wafer Clean Tool
SC3080设备可同时配备多种药液,主要用于12英寸后段和前段清洗工艺。该机台主要由传输模块、工艺模块、药液供给模块、电源柜等组成,标配8个腔室2套药液系统,能够进行全自动dry in dry out清洗工艺。
设备特点
  • 精密的腔室微环境控制能力
  • 支持多种化学品
  • 高效的化学品回收效率
  • 4 腔或8腔可选
  • 优秀的干燥效果
产品应用
  • 晶圆尺寸
    12英寸
  • 适用材料
    单晶硅、多晶硅、氧化硅、氮化硅、介质膜、金属膜
  • 适用工艺
    后段Cu/Al 制程刻蚀后、Al Pad、背面清洗、背面刻蚀,后段控挡片回收
  • 适用领域
    集成电路、先进封装、功率半导体、硅基微显示
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