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半导体装备 Semiconductor

EPEE 550

等离子体增强化学气相沉积系统

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EPEE 550 等离子体增强化学气相沉积系统
EPEE 550 PECVD System
EPEE 550系列主要用于2~8英寸SiO₂、SiNₓ、SiON等介质薄膜沉积工艺，单反应腔多片架构，兼具大产能和高性价比特点，广泛应用于LED领域蓝绿、红黄光制程工艺。
设备特点
  • 大容量载盘，兼容不同晶圆尺寸
  • 良好的薄膜沉积均匀性
  • 高功率在线清洗技术，清洗效率高
  • 可选高、低频电源配置，薄膜应力可调
  • 低拥有成本、低运营成本
产品应用
  • 晶圆尺寸
    8英寸及以下
  • 适用材料
    氧化硅、氮化硅、氮氧化硅
  • 适用工艺
    保护层、掩膜层、电流阻挡层
  • 适用领域
    半导体显示及照明、科研领域
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