半导体装备 Semiconductor

HPU Series

预防雾化单元

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HPU Series 预防雾化单元
HPU Series Hazing Prevent Unit
HPU系列预防雾化单元应用于平板显示客户、集成电路客户的曝光机镜面防雾化，祛除吸入曝光机中的AMC污染物。
设备特点
  • 为曝光设备提供精密的温湿度和超洁净气体，大幅提升良率
  • 结构设计符合人机功能学，耗材取换过程简便快捷
  • 温湿度和风量调节范围大，多种组合配方满足复杂厂务需求
产品应用
  • 湿度控制精度
    ≤±2%RH
  • 温度控制精度
    ≤±1℃
  • 适用领域
    主要用于面板厂、晶圆厂、封装测试厂的曝光机镜面防止雾化去除吸入曝光机中的酸、碱、VOC和微粒污染物
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